Objectiu de Sputtering Niobium
Niobium Sputtering Target és un material que s’utilitza en el procés de recobriment de sputtering, principalment per formar pel·lícules primes en substrats . Els materials objectiu de niobium tenen alta puresa, qualitat de pel·lícula d’òxid uniforme, resistència a la temperatura alta i resistència a la corrosió, i s’utilitzen àmpliament en diversos camps com els aerospace i els dispositius mèdics .}
Descripció
Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. is located in the High tech Development Zone of Baoji City, Shaanxi Province. The company mainly produces conventional processed profiles such as plates, strips, foils, rods, wires, and pipes made of tantalum, Niobium, Hafnium, Tantalum Tungsthen Aliat Equip .
Paràmetres d’especificació i tipus de material objectiu
Especificacions de mida
Diàmetre de destinació rodona: les mides estàndard inclouen diàmetre 25 . 4mm, 50 . 8mm, 76,2mm, 101,6mm, 127mm i 152,4mm. Els diàmetres personalitzats es poden ampliar a 20-400 mm.
Mida de l'objectiu quadrat: gruix 1-20 mm x amplada 10-1000 mm x longitud 200-2000 mm (suporta la personalització no estàndard) .
Longitud de l'objectiu giratori: fins a 1500mm, que requereix unió a una placa posterior de coure lliure d'oxigen .
Tipus de material objectiu
Target pla: substrat circular/quadrat, desviació de la plana inferior o igual a 0 . 2mm.
Target giratori: Estructura cilíndrica, adequada per a la gran superfície . Equipament de recobriment .
Material objectiu compost:
Placa posterior de coure vinculant: gruix de capa de coure de 2-3 mm, porositat de la interfície inferior o igual a 0 . 1%.
Target d’aliatge (com TANB20): relació de niobium ajustable (ta =80: 20/70: 30/60: 40) .
Àrees d'aplicació bàsiques
1, fabricació de semiconductors i xips
Capa conductora/capa de barrera: el material objectiu d’alta puresa de 4n grau (superior o igual a 99 . 99%) s’utilitza com a capa de barrera de difusió per a interconnexions de coure en xips, donant suport a la miniaturització de xips 5G.
Dispositius d’emmagatzematge: Disk dur (HDD) capa magnètica i deposició de pel·lícula protectora SSD per millorar la densitat d’emmagatzematge de dades .
2, Indústria especial i investigació científica
Dispositiu de física nuclear: Les làmines de niobi resistents a la radiació (gruix 0.1-5 mm) s'utilitzen per a detectors de partícules i components de blindatge .
Aeroespacial: recobriment resistent a la temperatura per a fulles de turbina (condició de treball de 1700 graus), excel·lent resistència a xoc tèrmic .
Dispositius mèdics: recobriment biocompatible, modificació superficial dels implants ortopèdics .
3, nous dispositius energètics i òptics
Photovoltaic cells: Anti reflective layer/conductive layer, light transmittance>95%, millora de l'eficiència de conversió fotoelèctrica .
Vidre d’estalvi d’energia: vidre recobert de baix E, control de reflexió infraroja, taxa d’estalvi d’energia del 30%.
LiDAR: LiDAR Optical Anti Reflective Film redueix la pèrdua de dispersió de la llum i millora la precisió del senyal .
Material objectiu de niobi, com el material bàsic del recobriment d’alt rendiment, s’ha convertit en un component clau indispensable en els camps de semiconductors, noves energia i indústries especials a causa de la seva excel·lent resistència a la temperatura d’alta temperatura, i l’ajustabilitat funcional . Els materials objectiu de Niobium personalitzats s’ampliaran encara més, promovent el desenvolupament de processos de preparació de materials cap a una major precisió i verda .
Etiquetes populars: Target de Niobium Sputtering, Xina Niobium Sputtering Fabricants, proveïdors, fàbrica, fàbrica
Enviar la consulta
Potser també t'agrada
