Objectiu de Sputtering de Tantalum

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. es troba a la zona de desenvolupament d'alta tecnologia de la ciutat de Baoji, província de Shaanxi. L’empresa produeix principalment perfils processats convencionals com ara plaques, tires, làmines, varetes, cables i canonades feta de tàntal, niobium, hafnium, aliatge de tungstè de tàntal, niobi hafnium aliat Pantalles d’aïllament del forn, elements de calefacció, cossos del forn (forns de calefacció, forns de recobriment) i equipament resistent a la corrosió.

 

 

Explicació detallada de les especificacions del material objectiu de Tantalum Sputtering

01.

Especificacions de diàmetre\/gruix

Especificacions de diàmetre: Els diàmetres estàndard comuns són de 50mm, 50,8mm, 57mm, 60mm, 76,2mm, 80mm, 100mm i 101,6mm, amb un rang de personalització de 50-400 mm.
Especificació de gruix: el gruix bàsic sol ser 0. 1-50 mm (com ara un valor comú de 3 mm), i es pot unir a una objectiu posterior de coure (com ara la capa de coure de 2mm o 3mm) o equipat amb gaskets magnètics per satisfer la compatibilitat dels equips específics.

02.

Grau de puresa\/Material Condició\/Forma i Personalització

Nivell de puresa: alta puresa superior o igual al 99,95% o superior o igual al 99,99%, adequada per a aplicacions de grau semiconductor.
Estat material: Proporcionar estat recobert (m) o estat dur (y) per complir els requisits de processament diferents.
Forma i personalització: admet la personalització de dianes planes, objectius giratoris i objectius irregulars. Les dimensions, toleràncies (com la rugositat superficial inferiors o iguals a 32RMS) i els mètodes d’unió es poden dissenyar de manera flexible segons dibuixos o requisits.
Grau de puresa\/Material Condició\/Forma i Personalització

Característiques:
Punt de fusió elevat i excel·lent estabilitat química: Tàntal té un punt de fusió de 3017 graus i un punt d’ebullició de 5458 graus. No reacciona amb Aqua Regia a temperatura ambient i té una excel·lent resistència a la corrosió.
Propietats elèctriques úniques: Tantalum presenta excel·lents propietats elèctriques i és adequat per a processos de gamma alta de gamma alta, com ara la transmissió de radiofreqüència amb una densitat de potència de fins a 15W\/cm ².
High temperature stability and low gas adsorption: maintaining a strength of>4 0 0MPA a 500 graus, amb una energia superficial fins a 0,8J\/m ², suprimint eficaçment l'adsorció de gas AR i la millora de la taxa de deposició de pel·lícules.

Finalitat:
Fabricació de semiconductors: els objectius de tàntal s’utilitzen habitualment com a materials de barrera per a la tecnologia d’interconnexió de coure en circuits integrats per semiconductors. L’estructura de bicapa de nitrogen (TA\/tan) de tàntal\/tàntal pot estendre eficaçment el temps de fallada d’electromigració a 10 hores.
Recobriment òptic: els objectius de tàntal s’utilitzen per fabricar pel·lícules primes amb propietats òptiques específiques mitjançant la deposició de vapor físic (PVD) o tècniques de deposició de vapor químic (CVD) i s’utilitzen àmpliament en dispositius òptics, pantalles i sensors.
Dispositius mèdics: Tantalum té una bona biocompatibilitat i és adequat per a implants mèdics com ara plaques òssies i pròtesis articulars, reduint les reaccions de rebuig humà.
Recobriment anti -corrosió: a causa de l'excel·lent resistència a la corrosió de Tantam, s'utilitza per recobrir equips químics i superfícies metàl·liques exposats a ambients extrems, ampliant la vida útil dels equips.
Altres aplicacions: també s’utilitzen materials objectiu de tàntal en la fabricació de suports d’emmagatzematge magnètic, capçals d’impressora de tinta i pantalles de panells plans.

Etiquetes populars: Target Sputtering de Tantalum, Xina Tanta Targeting Fabricants, proveïdors, fàbrica, fàbrica